本发明公开了一种抛光用无蜡垫及生产方法，包括垫片底盘、沉孔和无蜡抛光轮，垫片底盘的内部设有沉孔，沉孔内卡嵌安装无蜡抛光轮，其中无蜡垫分为单一式无蜡垫和集中式无蜡垫，单一式与集中式的区别为垫片底盘中沉孔的分布不同，及垫片底盘的组分分布工艺不同，单一式无蜡垫中沉孔容量较大，用于晶片打磨时，无蜡抛光轮与晶片的接触面积的不同，使得对于不同形状大小的晶片的打磨程度不同，垫片底盘内不同的组分分布工艺，分别提高了垫片底盘的抗拉伸性能、摩擦力性能和承热能力性能，有效避免了晶片打磨过程中出现的碎片、崩角与刮伤的问题，防止由于抛光过程中由于过热导致无蜡垫断裂损坏的问题，有效提高晶片产品的抛光合格率。