本发明公开了一种高强度高性能的软磁铁氧体材料的生产工艺，包括以下步骤：步骤一，碳化硅晶须的改性：将碳化硅晶须先置于稀土溶液中活化20‑30min，随后再与纳米粉体置于高压釜中，加入无水乙醇，搅拌20‑30min，搅拌转速为220‑250r/min，高压釜的压力为20‑30min，随后再离心、干燥，再研磨过100‑200目。本发明先配制基料，再完成基材的制备，基材通过改性碳化硅晶须将基料层包覆，不仅不会造成原料的混杂，同时也不会干扰到基体的磁导料、磁通密度等性能，此外碳化硅晶须具有耐磨、抗拉强度高等特点。