本发明公开了一种蚀刻及清洗级氟化铵的制备方法，包括以下制备步骤：(1)高纯氨的制备；(2)高纯水的制备；(3)电子级氢氟酸的制备；(4)将步骤(1)制备的高纯氨通入装有步骤(3)制得的电子级氢氟酸溶液的合成槽中，进行气液相一步反应生成氟化铵，反应压力为80‑100kPa，反应温度为15‑50℃，冷却后进入氟化铵合成槽，再加入步骤(2)制备的高纯水，自循环20‑24h，得到氟化铵成品。本发明以氟化氢和氨为原料,气液相一步合成，经过净化处理的气态氨和液态氟化氢在控制流速下同时通入反应容器中,借助对反应物pH值的控制使之最终生成氟化铵，生产周期短,排放的氟化氢和氨气的废气少,成品氟化铵的铜离子杂质含量低于10ppt。