本发明公开一种氮化铝钪材料，具体地说，是氮化铝钪靶材及氮化铝钪颗粒，氮化铝钪颗粒是由氮化铝钪靶材通过机械加工制备而成，用于蒸发镀膜制备氮化铝钪薄膜及器件。氮化铝钪材料化学表达式为：(ScxAl1‑x)N,其中2at%≤x≤50at%。氮化铝钪靶材相对密度可控范围70.0%‑99.2%、纯度≥99.99%、主要杂质含量之和小于100μg/g、晶粒尺寸最大值可控范围20μm‑200μm。可用于镀膜厂家通过磁控溅射直接制备氮化铝钪薄膜,可避免现有反应溅射法制备氮化铝钪薄膜过程中出现的不稳定现象,提高生产效率和改善薄膜质量。