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专利名称低阻尼大自旋霍尔角的稀土基合金材料及其制备方法
申请日2019-10-12
申请号/专利号CN201910965484.6
专利权人南京理工大学
申请人南京理工大学
发明人/设计人徐锋;徐展;刘二;唐家轩;张志;张想
公告日2020-01-24
公告号CN110724909A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类新材料

摘要

本发明公开了一种低阻尼大自旋霍尔角的稀土基合金材料及其制备方法,属于自旋电子学新材料技术领域。该材料为铜铽合金薄膜,其组分为Cu1‑xTbx,0.05<x≤0.47,晶体结构为非晶。本发明通过调控铽元素的比例,可以调节材料的自旋霍尔角与自旋混合电导,使得体系同时具有高的自旋霍尔角度与较低的磁阻尼,可以满足高效低能耗的新型自旋电子学器件的使用需求。
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