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专利名称一种VAD法提升控制装置及对应的控制方法
申请日2019-09-25
申请号/专利号CN201910910957.2
专利权人江苏亨通光导新材料有限公司
申请人江苏亨通光导新材料有限公司;江苏亨通光电股份有限公司
发明人/设计人顾金祥;周钰楠;杜森;王友兵;李赵华;吴振伟;简晓松;马睿;万志斌;连坤;吴学渊;胡景;鲁阳
公告日2019-11-29
公告号CN110510863A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类新材料

摘要

本发明提供了一种VAD法提升控制装置,其降低了物料的成本、且使得松散体提升时直线状态稳定可靠。其包括沉积腔体主体,所述沉积腔体主体包括底部沉积壳体、上部高度方向导向壳体,所述高度方向导向壳体顶板的中心位置设置有中心安装孔,其还包括有N个高度方向顺次排布的固定筒,其中N为大于等于2的自然数,每个所述固定桶包括筒体、顶部外凸定位环、底部内收定位环、底部外凸环形限位,所述筒体的顶部外环周设置有径向外凸的顶部外凸定位环,所述筒体的底部内壁设置有径向内凸的底部内收定位环,所述筒体的底部外环周设置有径向外凸的底部外凸环形限位。
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