本发明公开了一种高温后粘着力稳定的制程用的过程膜生产方法及其产品，过程膜中基材为厚度25‑200μm的PET、PO、PVC或PP光学薄膜，其中一面经过电晕处理；压敏胶层为UV降粘胶层，包含压敏胶层质量的0.1—5%吸收波长在200—400nm内的光引发剂和0.5—10%纳米晶珠，压敏胶层涂覆于基材的电晕面上并覆盖离型膜，UV前剥离力为500—5000g/25mm、UV后的剥离力为0—100g/25mm。本发明在高温环境下使用时剥离力相对稳定，解决了UV减粘膜在高温环境下剥离力大幅度攀升的问题，避免残胶现象，增加工艺过程的稳定性，同时提高了成品率和效率，目前主要应用于模组的制程过程。