本发明公开了一种组合式真空镀膜系统的生产方法，包括腔室（10），Z和旋转操纵器单元，靶支架单元（50），加热元件单元（40），辐射屏蔽单元（11,11a，103）和单位（100,101,102）基于涂覆方法。在此，组合涂覆真空系统的涂覆方法使用溅射源，蒸发源，热源，电子束源，喷射池，坩埚和衬里，离子蚀刻源和激光沉积源方法。提供一种生产组合式真空镀膜系统的方法，该方法仅在具有从单个系统获得的优点的情况下应用于组合式系统，并保持在组合式涂覆系统中建立的最佳状态。