本发明公开了制作双面透明导电氧化物薄膜的镀膜设备，其至少包括第一镀膜腔（1）和第二镀膜腔（2）、横穿第一和第二镀膜腔的用于传输镀膜载板的传输带（3），第一和第二镀膜腔内分别设有镀膜源，当待镀膜载板依次穿过第一和第二镀膜腔时，所述镀膜源对待镀膜载板双面镀制透明导电氧化物薄膜；本发明解决了离子镀膜和溅射镀膜的缺点，有效解决镀膜粉尘对于TCO薄膜质量及产品效率的影响，尤其适合高效率薄膜硅/晶体硅异质结太阳电池的正面和背面连续生产时、方向由下往上镀膜源上方薄膜积迭所积造成的粉尘而产生缺陷。且本发明的设备和方法可适用于多种具有不同性能的TCO材料及不同型式的镀膜源。