本发明涉及一种硅晶体铸锭降氧涂层，由涂层原液组成，所述涂层原液由纯水、粘合剂和氮化硅粉组成，其质量组成为纯水占70%～75%，粘合剂占0.05%～1%，氮化硅粉占25～30%；粘合剂由交联淀粉、水溶纤维和添加剂组成，其中，交联淀粉质量百分比为60～80%，水溶纤维质量百分比为20～40%，添加剂质量百分比为2～10%。该发明提出了一种新型的氮化硅涂层，可得到更加致密和稳定的涂层。具有使用量少、获得涂层致密性高的特点，可大大降低坩埚中的氧对硅锭底部和边缘扩散。