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专利名称一种强反光金属结构件的在位测量中多次反光抑制方法
申请日2012-06-20
申请号/专利号CN201210210742.8
专利权人北京航空航天大学
申请人北京航空航天大学
发明人/设计人赵慧洁;姜宏志;孙健
公告日2015-02-11
公告号CN102721375B
法律状态有效
专利类型发明
行业分类

摘要

一种强反光金属结构件的在位测量中多次反光抑制方法,该方法能够实现对强反光金属结构件的在位测量,它有八大步骤。该方法首先对左右相机和投射器进行标定;再利用在位测量机床提供的参数求取投射器与工件坐标系的相对位姿;然后通过零件CAD的模型的各个面法线方向进行测量规划;进而工件上需要测量的点投影到数字投射器上,确定出需要投射的区域后选择性投射;最后通过对相机拍的图片的相位解算完成物体的三维复现。本发明除了具有速度快、精度高和三维点云稠密等优点外,还实现了无人工干预下的全自动在位测量,可操作性强,能够满足现场强反光金属结构件在位快速测量的需求。
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