本实用新型提供的一种可用于大面积表面等离子体处理的新型源极结构，由4~6金属靶材和固定金属靶材的靶托组成，靶材呈格栅状排列，靶材的一端为凸台结构，靶托上有与凸台对应的凹槽。靶材上的凸台和靶托上的凹槽为梯形或燕尾形，两者接触的侧面与水平面的倾斜角为65°~80°。所述凹槽等距离分布在靶托上，凹槽的间距为10~20mm。该新型源极结构在平面源极结构的基础上，增加与其平面相垂直的格栅，每个格栅片之间能够产生空心阴极等离子放电，从而在同样电压条件下，能够获得比传统平面状源极结构更高的等离子体浓度，适用于大面积工件的处理。