一种软脆易潮解晶体化学机械抛光用无水无磨料抛光液，其特征在于它是由有机腐蚀剂0.5%-40%，有机腐蚀抑制剂0.5%-20%，有机表面活性剂0.5%-15%，有机pH调节剂0.01%-10%以及有机溶剂30%-95%组成。无水无磨料抛光液不含任何水分，避免了软脆易潮解晶体的遇水潮解开裂问题。同时，无水无磨料抛光液不含任何磨料，对软脆易潮解晶体表面损伤小，可以获得无损伤超光滑表面，而且不会产生沉淀，能够长时间的保存和使用。无水无磨料抛光液稳定性好，流动性好，易清洗，对设备腐蚀小。本发明是专门针对软脆易潮解晶体化学机械抛光而制备的一种无水无磨料抛光液，不但兼有无水无磨料的优点，还针对软脆易潮解材料能得到更高的表面质量，并且方法简单易行、成本低。