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专利名称一种基于SiC MOSFET频率特性的叠层母排杂散参数提取方法
申请日2019-11-15
申请号/专利号CN201911119872.9
专利权人浙江大学
申请人浙江大学
发明人/设计人胡斯登;王明阳;雷云;何湘宁
公告日2020-02-28
公告号CN110850208A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类信息技术

摘要

本发明公开了一种基于SiCMOSFET频率特性的叠层母排杂散参数提取方法,该方法首先搭建SiCMOSFET双脉冲测试平台,将叠层母排的待测区段外接于测试平台;在SiCMOSFET的两端并联多组额外电容,利用并联额外电容前后SiCMOSFET关断电压波形中震荡的频率信息,得到多组等效电路模型的谐振角频率,进而计算得到叠层母排的杂散电感和寄生电容,实现叠层母排的杂散参数的提取。本发明利用SiCMOSFET的高开关速度特性,以激发明显的关断电压震荡,相比于传统的间接测量法,减少了人为因素带来的测量偏差;此外,本发明能够测量叠层母排中任意区段的杂散电感与寄生电容,测量具有更高的灵活性与全面性。
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