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专利名称一种射流空化技术制备二维纳米氮化硼的方法
申请日2011-11-07
申请号/专利号CN201110347905.2
专利权人北京航空航天大学
申请人北京航空航天大学
发明人/设计人沈志刚;李金芝;易敏;麻树林;张晓静;邢玉山
公告日2013-04-24
公告号CN102398897B
法律状态有效
专利类型发明
行业分类

摘要

一种射流空化技术制备二维纳米氮化硼的方法,它有七大步骤:一、按重量比将氮化硼粉等三种原料配制成氮化硼水溶液,放入储料罐中;二、氮化硼水溶液由储料罐进入柱塞泵被加压至指定压力;三、氮化硼水溶液进入空化发生器中发生片层的剥离,得到含单层和多层二维纳米氮化硼的溶液;四、水冷含单层和多层二维纳米氮化硼的溶液的温度至室温;五、将步骤四得到的溶液再进入储料罐、柱塞泵和空化发生器,重复步骤三、四,形成制备过程的循环;六:系统运行5min~100min后加工完成,关闭系统;七、从储料罐中取出经步骤六得到的溶液,倒入沉淀罐,经沉淀后得到的上清液即为所需的二维纳米氮化硼溶液。本发明工艺先进,成本低,无污染,能实现工业化大规模生产。
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