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专利名称一种便于清理的化学机械抛光设备
申请日2019-12-02
申请号/专利号CN201911211969.2
专利权人深圳市安达工业设计有限公司
申请人深圳市安达工业设计有限公司
发明人/设计人董兴超
公告日2020-03-13
公告号CN110877286A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类机械制造

摘要

本发明公开了一种便于清理的化学机械抛光设备,包括底座和产品,所述底座内部开设有第一固定槽,其中,所述第一固定槽内部安装有滴液分配器,所述滴液分配器顶部连接有第一滴液管,靠近第一滴液管的所述滴液分配器顶部连接有第二滴液管,靠近第一固定槽的所述底座内部安装有第一电机,所述第一电机一侧套接有第一旋转块。该便于清理的化学机械抛光设备设置有产品在打磨时第二滴液管会将打磨液输送到打磨垫上,打磨垫会将打磨后的打磨液流淌到打磨槽内,以便打磨槽可以将打磨液输送到导向槽内,由导向槽将打磨液输送到储存槽内,从而产品打磨结束后可以将储存槽与第一连接槽进行分离,方便储存槽可以将打磨后的杂质与打磨液进行清理。
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