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专利名称多元喷射电沉积加工多层膜的方法及装置
申请日2011-09-13
申请号/专利号CN201110269337.9
专利权人南京航空航天大学
申请人南京航空航天大学
发明人/设计人沈理达;刘志东;王桂峰;田宗军;高雪松;黄因慧
公告日2013-10-16
公告号CN102330126B
法律状态有效
专利类型发明
行业分类

摘要

一种多元喷射电沉积加工多层膜的方法及装置,其特征是在回转基体周围分别安装着两个或多个喷射加工单元,使上述回转基体保持旋转,实现多种组分的同步喷射电沉积。本发明可以很方便地实现对多层膜的组分、调制波长、微观结构等参数的精密调控,人为设计和制备所需特性的多层膜,制备两种或两种以上子层交替的多层膜,这些多层膜的子层可以是纯金属、合金等,晶体结构也可以多种多样,具有设备简单、节约成本、高效快捷、容易控制、加工过程足够稳定等优点。
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