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专利名称采用磁控溅射法制备碲化镉纳米线阵列的方法
申请日2011-08-26
申请号/专利号CN201110249800.3
专利权人北京航空航天大学;北京航亿佳鑫科技开发有限公司
申请人北京航空航天大学;北京航亿佳鑫科技开发有限公司
发明人/设计人邓元;罗炳威;王瑶;张志伟;祝薇;李茂;刘晶;叶慧红
公告日2013-04-03
公告号CN102286721B
法律状态有效
专利类型发明
行业分类

摘要

一种碲化镉纳米线阵列的制备方法,其特征在于包括:将碲化镉靶材放入磁控溅射仪的真空室(7)中的射频台(1)上;把石英基板放置于样品台(2)上;调节样品台(2)与射频台(1)的距离(d)至预定距离范围;对真空室(7)抽真空,从而使真空室(7)内的真空度达到预定值;把石英基板加热至预定温度范围,以调控碲化镉的结晶条件;向真空室(7)中充入氩气,并将氩气压强调节至预定范围,以调节溅射出来的碲化镉在到达石英基板的过程中的散射程度,从而调节沉积速率;施加射频电流,从而调控溅射出来的碲化镉的量,从而调节沉积速率;沉积预定时间。
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