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| 专利名称 | 压裂井口金刚石膜内壁的制备方法 |
| 申请日 | 2010-10-11 |
| 申请号/专利号 | CN201010502784.X |
| 专利权人 | 南京航空航天大学 |
| 申请人 | 南京航空航天大学 |
| 发明人/设计人 | 左敦稳;孙玉利;徐锋;卢文壮;许春;黄美健 |
| 公告日 | 2011-12-07 |
| 公告号 | CN101967638B |
| 法律状态 | 有效 |
| 专利类型 | 发明 |
| 行业分类 |
摘要
一种压裂井口金刚石膜内壁的制备方法，其特征是它包括以下步骤：表面处理、等离子喷涂、磨削加工、金刚石膜沉积前的预处理、热丝布置和ＣＶＤ金刚石膜沉积炉的沉积等。本发明优化了高端压裂井口装置产品的批量生产工艺，具有喷涂效率高，涂层致密和粘结强度高的优点。
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