本发明公开了一种滚筒式样品台以及用其进行粉体颗粒的磁控溅射镀膜方法，属于真空镀膜技术领域。该滚筒式样品台包括有滚筒、筛网、双模运动机构和振动机构，筛网与振动机构连接，滚筒与双模运动机构连接，滚筒的开口处设有靶材。在磁控溅射镀膜过程中，是将粉体颗粒放于滚筒内，根据粉体样品的分散性，调节滚筒的旋转速度及上下振动功率，粉体颗粒被翼片带到滚筒的上方，同时在滚筒的上下振动及重力作用下，粉体颗粒就会落到筛网中，筛网中的粉体在超声波的振动下垂直下落，在滚筒开口处入射来的溅射流就会在下落的粉体表面沉积，经过一定时间的沉积就会在粉体颗粒表面沉积上均匀性好、致密性高和附着力强的薄膜。