本发明公开了一种具有Ｙ↓［２］Ｏ↓［３］抗侵蚀涂层坩埚及其采用注浆成型工艺制Ｙ↓［２］Ｏ↓［３］抗侵蚀涂层的方法，该具有Ｙ↓［２］Ｏ↓［３］抗侵蚀涂层坩埚是采用注浆成型工艺将Ｙ↓［２］Ｏ↓［３］抗侵蚀浆料制备在坩埚基体的内壁上，且形成厚度为０．５ｍｍ～８ｍｍ的Ｙ↓［２］Ｏ↓［３］抗侵蚀涂层。Ｙ↓［２］Ｏ↓［３］抗侵蚀浆料由多级Ｙ↓［２］Ｏ↓［３］原料粉、分散剂、粘结剂和去离子水经混合均匀得到。本发明具有Ｙ↓［２］Ｏ↓［３］抗侵蚀涂层坩埚的熔炼温度达到１６００℃～２０００℃，能够满足高活性金属合金的熔炼，如Ｔｉ合金、Ｎｂ合金、稀土合金及含Ｔｉ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｈｆ、稀土元素等高活性元素的合金的熔炼。