一种具有双层方格金属网栅结构的电磁屏蔽光学窗属于光学透明件电磁屏蔽技术领域，电磁屏蔽光学窗由两层结构参数相同的方格金属网栅或金属丝网平行放置于光学窗或透明衬底两侧构成，双层方格金属网栅的方格边长大于传统单层方格金属网栅方格边长的２倍，且其两层方格金属网栅的间距为其方格边长的２～４倍，相对于传统单层方格金属网栅，采用双层方格金属网栅结构的光学窗在不降低透光率的同时，大幅度提高了微波以及毫米波的屏蔽效率，解决了已有光学窗电磁屏蔽技术中高透光率和强电磁屏蔽效率不能同时兼顾的问题，适用于航空航天装备、保密设施和医疗诊断仪器等军用、民用光学透明件的电磁屏蔽。