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专利名称一种柔性薄膜电极及其制备方法
申请日2017-10-13
申请号/专利号CN201710951179.2
专利权人北京航空航天大学
申请人北京航空航天大学
发明人/设计人邓元;申胜飞;祝薇;彭云成;孔锡霞;徐爽
公告日2020-01-07
公告号CN109671534B
法律状态有效
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明公开了一种柔性薄膜电极及其制备方法,属于柔性电极技术领域。本发明首先在预处理后的SiO2+Si基底上进行Cu薄膜电极的溅射沉积;然后将Cu薄膜电极向柔性基底上的转印,得到柔性薄膜电极。通过本发明可以高效、简易地在PET、PI柔性基底上制备出Cu薄膜电极。本发明利用应力诱导微剥离,通过调节溅射基底温度和薄膜厚度弱化了Cu薄膜电极在SiO2+Si基底表面的结合力,并调控了Cu薄膜电极表面的微纳结构,优化了Cu薄膜电极电阻率。通过本发明制备的PET、PI基柔性薄膜电极的电阻率低至3.2×10‑8Ωm。
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