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专利名称微细电解线切割加工间隙电沉积辅助测量方法
申请日2017-07-14
申请号/专利号CN201710573073.3
专利权人南京航空航天大学
申请人南京航空航天大学
发明人/设计人曾永彬;朱荻;毕晓磊
公告日2018-12-07
公告号CN107511546B
法律状态有效
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明涉及的微细电解线切割加工间隙电沉积辅助测量方法,属于精密、微细电化学加工技术领域。其特征包括以下过程:利用两种不同的电化学沉积方法,即金属离子从微细电解线切割加工的微缝结构端部或者所用的微尺度线电极表面进行沉积,直至充满加工间隙,并将微尺度线电极相对于微缝结构端面的位置完全固定。从工件厚度方向对加工间隙进行分层抛磨、实际测量、数据修正,通过数学建模、图像重构建立加工间隙的分布模型。本发明对微细电解线切割加工的理论研究具有重要意义。
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