本发明涉及一种带浮动装置的吸附式电磁足，涉及机器人技术领域，用于解决现有技术中存在的在不平整表面上机器人足部与吸附表面的吸附间隙大而不能可靠稳定吸附的技术问题。本发明的带浮动装置的吸附式电磁足，包括电磁足本体以及设置在所述电磁足本体底部的电磁铁组合构件，通过设置浮动机构，使电磁铁在较小范围能够自动调节其在吸附目标表面的吸附姿态，从而补偿吸附间隙，即可有效保证吸附式电磁足稳定、可靠的吸附。