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专利名称一种(101)晶面择优生长的SnS2纳米片负极材料的制备方法
申请日2016-09-30
申请号/专利号CN201610874891.2
专利权人北京科技大学
申请人北京科技大学
发明人/设计人赵海雷;张子佳;杜志鸿;赵丽娜;滕勇强;李兆麟;杜雪飞
公告日2019-04-12
公告号CN106450296B
法律状态有效
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明公开了一种(101)晶面择优生长的SnS2纳米片负极材料的制备方法。本研究以无机锡盐为锡源,以有机硫化物为硫源,以聚乙二醇为添加剂,通过简单的溶剂热法一步制备出以(101)晶面择优生长的SnS2纳米片。这些以(101)晶面为裸露表面的纳米片,在充放电过程中可以提供充足的电化学活性位点,缩短锂离子的扩散路径,加快电化学反应动力学,从而使得电极的倍率性能优异。本发明的优点在于(101)晶面择优生长的SnS2纳米片的制备工艺简单易行,并可以应用到其他层状物质的择优生长。此方法制备的(101)晶面择优生长的SnS2纳米片具有优异的倍率性能,是一种潜在的高性能锂离子电池负极材料,有望广泛应用于各种便携式电子设备、电动汽车以及航空航天等领域。
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