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专利名称大束流电子束打靶微束斑X射线源的聚焦装置及其使用方法
申请日2015-07-24
申请号/专利号CN201510440961.9
专利权人北京航空航天大学;中国科学院电工研究所
申请人北京航空航天大学;中国科学院电工研究所
发明人/设计人李文萍;刘俊标;韩立;霍荣岭;初明璋;殷伯华;薛虹;陈志琪
公告日2017-10-17
公告号CN105140088B
法律状态有效
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明公开了大束流电子束打靶微束斑X射线源的聚焦装置及其使用方法,包括聚光镜模块、过渡段模块、可动光阑模块、物镜模块和电子束通道;电子枪发射出的电子束经过聚光镜模块,在由聚光镜模块形成的磁场作用下,形成平行束;经过过渡段模块后,通过移动可动光阑,选择可动光阑上合适的通光孔调节靶面电子束的入射角,改变靶平面处的束流大小和束斑尺寸。该聚焦装置的使用方法,包括步骤一、设置初始条件和性能指标;步骤二、设置物镜模块参数;步骤三、设置聚光镜模块的参数,实现平行工作模式;步骤四、实现电子束束流间的快速切换,在靶面处形成大束流微束斑;优点在于:采用平行模式,无电子束交叉点,降低了电子间库仑力效应。
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