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专利名称用于制备表面为特定晶面的单晶空间取向调控方法和装置
申请日2015-06-26
申请号/专利号CN201510364164.7
专利权人中国科学技术大学
申请人中国科学技术大学
发明人/设计人陈艳霞;郑勇力;魏杰;廖铃文
公告日2017-10-03
公告号CN105127883B
法律状态有效
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明涉及一种确定和调控单晶体空间取向的装置以及利用该装置制备表面具有特定晶面取向的单晶材料的方法。装置包括:单晶体及其连接体,基座,激光器,半透镜,平面反射镜,反射接收屏。本发明利用激光照射从多方位观察单晶材料表面的反射信号确定单晶的实际空间取向,通过调控以及单晶体的可塑性连接体调变单晶体的空间取向,实现对单晶体的特定晶面相对于某个基本晶面取向的精确确定。最后通过定向碾磨抛光得到具有目标单晶面的单晶材料。本发明方法成本低、操作简单、精度高、适合具有各种晶体结构以及形状的单晶材料、可用于这些材料的各种基本晶面和阶梯晶面的制备。可广泛用于基础研究、航空航天、化工和电子等行业的单晶材料制备。
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