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专利名称一种谐振器及其制作方法
申请日2019-02-20
申请号/专利号CN201910126149.7
专利权人中国科学院微电子研究所
申请人中国科学院微电子研究所
发明人/设计人唐兆云;霍宗亮
公告日2019-06-14
公告号CN109889174A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明提供了一种谐振器及其制作方法,包括:提供衬底,在衬底上形成至少一个第一凹槽,并在第一凹槽内填充待刻蚀材料;在衬底表面形成压电结构层,压电结构层包括依次位于衬底表面的种子层、下电极、压电层和上电极;对每个压电区四周的压电结构层进行刻蚀形成第二凹槽,每个压电区的压电结构层对应覆盖一个第一凹槽;在第二凹槽内填充待刻蚀材料,并在衬底表面形成与各个压电区的上电极电连接的互连电极;去除待刻蚀材料,在第一凹槽对应的区域形成第一空腔,在第二凹槽对应的区域形成第二空腔。由于每个压电区的压电结构层四周都具有第二空腔,而能量在介质与空气的界面会被反射回来,因此,可以最大程度的减少能量的损失,提升谐振器的Q值。
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