本发明公开了一种声表面波滤波器的前道晶圆光刻方法，属于声表面波滤波器制造领域。该方法包括制作水平掩膜版和垂直掩膜版，所述水平掩膜版上仅包括垂直线条，所述垂直掩膜版上仅包括水平线条，所述水平掩膜版上的垂直线条和所述垂直掩膜版上的水平线条共同构成光刻图形；利用所述水平掩膜版对晶圆曝光，利用所述垂直掩膜版对经过一次曝光的晶圆进行二次曝光；或，利用所述垂直掩膜版对晶圆曝光，利用所述水平掩膜版对经过一次曝光的晶圆进行二次曝光；解决了光刻曝光过程中无法同时满足水平方向和垂直方向都具有高分辨率的问题；达到了令光刻机无论在水平方向还是垂直方向都可以达到最优分辨率的效果。