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专利名称衬底处理方法和设备
申请日2018-06-29
申请号/专利号CN201880045558.8
专利权人应用材料公司
申请人应用材料公司
发明人/设计人吴玉伦;J·库德拉;卡尔·A·索伦森;苏希尔·安瓦尔
公告日2020-03-06
公告号CN110870040A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

提供了一种处理衬底上的材料层的方法。所述方法包括:通过匹配网络将RF功率从RF电源输送到电容耦合等离子体腔室的喷头;点燃所述电容耦合等离子体腔室内的等离子体;相对于所述RF功率的基本频率的相位测量所述RF功率的一个或多个谐波信号的一个或多个相位角;以及基于一个或多个相位角测量来相对于所述RF功率的所述基本频率的所述相位调整所述RF功率的至少一个谐波信号的至少一个相位角。
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