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专利名称一种基于P阱浮空技术的采样开关及控制方法
申请日2018-05-04
申请号/专利号CN201810420910.3
专利权人中国电子科技集团公司第二十四研究所
申请人中国电子科技集团公司第二十四研究所
发明人/设计人徐代果;胡刚毅;徐学良;王健安;陈光炳;付东兵;王育新;徐世六
公告日2018-10-12
公告号CN108649953A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明提供一种基于P阱浮空技术的采样开关及控制方法,该采集开关包括升压电路、采样开关NMOS管NM1和开关SN,所述采样开关的一端作为输入端VIN,采样开关的另一端作为输出端OUT,输入端VIN分别连接升压电路的输入端、采样开关NMOS管NM1的输入端,输出端OUT连接采样开关NMOS管NM1的输出端,升压电路的输出端与采样开关NMOS管NM1的栅极连接;所述开关SN连接于采样开关NMOS管NM1的衬底与地之间。本发明所示结构非常简单,只引入了一个额外的开关,最大程度减小了采样管的额外寄生电容,和传统技术相比,电路实现也更为简单。
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