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专利名称一种折射率匹配的消偏振膜系
申请日2019-11-29
申请号/专利号CN201911197805.9
专利权人沈阳仪表科学研究院有限公司
申请人沈阳仪表科学研究院有限公司
发明人/设计人任少鹏;赵帅峰;高鹏;金秀;班超;王忠连;杨文华;胡雯雯
公告日2020-02-04
公告号CN110749950A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明涉及光学薄膜领域,尤其涉及一种折射率匹配的消偏振膜系,是以三种材料的消偏振膜系S|(αHβLγMβLαH)^n|A为基础,根据折射率匹配原理,通过采用匹配膜堆(aHbLaH)替代原有的γM膜层,从而实现两种材料的设计的基础膜系公式:S|(αHβLaHbLaHβLαH)^n|A,其中:S为玻璃基底;A为空气;H为高折射率材料;L为低折射率材料;a、b为折射率匹配系数;α、β分别表示不同材料的匹配系数;n为循环次数;H、L光学厚度为λ0/4。该膜系在满足倾斜入射应用领域的消偏振需求的基础上大幅降低生产工艺的难度。
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