本申请公开了一种本申请所提供的透明遮罩的制作方法，通过在PMMA基材上通过磁控溅射技术设置二氧化硅过渡层，所述二氧化硅过渡层的沉积速率的范围为0.1纳米每秒至0.25纳米每秒，包括端点值；在所述二氧化硅过渡层表面垂直于所述二氧化硅过渡层延伸方向通过磁控溅射技术层叠设置多个减反单元层，得到所述透明遮罩；其中，每个所述减反单元层包括一层二氧化硅减反层及一层二氧化钛减反层，所述二氧化钛减反层位于靠近所述PMMA基材的一侧。本申请缩减了膜层的镀制周期，降低了镀制能耗；并使所述透明遮罩在进行后续处理时不会因为应力释放导致膜层微结构发生改变进面导致光学性能下降。本申请还同时提供了一种具有上述有益效果的透明遮罩及车载显示设备。