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| 专利名称 | 一种新型锗基片 |
| 申请日 | 2019-06-25 |
| 申请号/专利号 | CN201920968277.1 |
| 专利权人 | 王兴明 |
| 申请人 | 王兴明 |
| 发明人/设计人 | 王兴明 |
| 公告日 | 2020-01-24 |
| 公告号 | CN209992700U |
| 法律状态 | 有效 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 行业分类 |
摘要
本实用新型公开了一种新型锗基片，包括有方形锗基片，所述方形锗基片上表面、下表面与侧面之间分别设有倒棱边，所述方形锗基片四个角为倒角，有效地防止封装时相邻锗基片之间发生碰撞，同时方形锗基片外表均进行抛光，实现外表面的平面度优于633纳米、平行度优于2秒，提高方形锗基片与光学薄膜之间的附着力。
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