本申请公开了一种偏光片、电子设备及偏光片的制备方法，所述偏光片包括：基膜，其一侧表面定义有第一区域以及围绕在所述第一区域周围的第二区域；线偏光膜，位于所述基膜的所述一侧表面，且覆盖所述第二区域；透明填充体，与所述线偏光膜同层设置，且覆盖所述第一区域；相位差膜，覆盖所述线偏光膜和所述透明填充体远离所述基膜一侧。通过上述方式，本申请能够较为简单的形成去偏光区域。