本发明提供了一种掩膜板、曝光方法、装置、显示基板、制作方法、装置，属于显示技术领域。掩膜板，包括：掩膜板本体，掩膜板本体包括第一透光区域和第二透光区域，第一透光区域的透光率大于第二透光区域的透光率；位于掩膜板本体的一侧表面上的第一滤光图形和第二滤光图形，第一滤光图形仅允许通过第一波段的光，第二滤光图形仅允许通过第二波段的光，第一波段与第二波段不同；第一滤光图形在掩膜板本体上的正投影完全覆盖第一透光区域，且与第二透光区域不重合，第二滤光图形在掩膜板本体上的正投影完全覆盖第二透光区域，且与第一透光区域不重合。本发明的技术方案能够在不更换掩膜板的情况下实现调节主隔垫物和辅隔垫物的高度差及尺寸。