本发明公开了一种基于反应离子刻蚀减薄的光学元件面形修正方法，解决了传统光学加工技术无法直接抛光新型柔性光学薄膜的问题。本发明提供的基于反应离子刻蚀减薄的光学元件面形修正方法，可以在不影响薄膜光学性能的情况下，快速高效地对柔性薄膜进行面形修正。本发明可以精确控制减薄区域与非减薄区域的界线，对准精度高，迭代次数少，减薄深度控制精度高，减薄掩蔽层制作方便，不会在光学件表面产生表面划痕或亚表面损伤，残余掩蔽层去除容易，工艺重复性好，无毒无害，也适用于传统无机刚性材料如二氧化硅、碳化硅等。