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专利名称一种日盲紫外成像背景光抑制光学系统及方法
申请日2019-06-18
申请号/专利号CN201910524434.4
专利权人苏州微纳激光光子技术有限公司
申请人苏州微纳激光光子技术有限公司
发明人/设计人杨勇;宋瑛林;储祥勇;杨俊义
公告日2019-08-23
公告号CN110161374A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明属于微弱光学信号探测领域,为在强日光条件下探测微弱紫外信号,提高探测可靠性,提高测量灵敏度,提出一种日盲紫外成像背景光抑制光学系统及方法。使用全反全透镜A将入射光分为两路,此透射光路上设置可见光成像光路,可见光经过可见光成像物镜后成像在可见光CCD上;紫外光被反射,反射光路上设置紫外光成像光路,紫外光入射至全反全透镜B,紫外光路中残存的可见光从全反全透镜B透射出紫外光成像光路,经全反全透镜B反射的紫外光经过紫外成像物镜后成像在紫外日盲CCD上,通过该图像融合系统对紫外通道信号进行像素级融合;在背景光强度较大的情况下提升了日盲信号探测灵敏度。
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