本发明公开了一种光波导的制造方法，包括：(a)在半导体衬底上形成包覆层；(b)刻蚀所述包覆层，形成芯层槽；(c)依次沉积芯层和牺牲层；(d)进行表面平坦化；(e)去除牺牲层；(f)重复步骤(c)至(e)，直至芯层槽被芯层填满；(g)进行表现平坦化，得到波导芯。本发明还提供一种光波导，包括：半导体衬底；包裹层，位于所述半导体衬底上，所述包裹层刻蚀有芯层槽；芯层，填充满所述芯层槽。采用本方案，最终可以得到厚度远远超出临界厚度的高质量氮化硅条形波导。