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专利名称阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法
申请日2019-06-12
申请号/专利号CN201910507308.8
专利权人武汉华星光电技术有限公司
申请人武汉华星光电技术有限公司
发明人/设计人丁文涛
公告日2019-09-20
公告号CN110265407A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明提供一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法。阵列基板包括层叠设置的衬底层、缓冲层、标记层和薄膜晶体管层;所述缓冲层设于所述衬底层的一面,所述缓冲层中层叠有应力相互抵消的至少两层无机层;所述标记层设于所述缓冲层背离所述衬底层的一面;所述薄膜晶体管层设于所述缓冲层具有标记层的一侧。显示面板包括所述的阵列基板。阵列基板的制作方法包括步骤:基板提供、衬底层制作、缓冲层制作和薄膜晶体管层制作。本发明所述缓冲层的两层无机层巧妙的利用了SiNx薄膜和SiO2薄膜应力方向相反互相抵消,增加缓冲层与衬底层的粘附力,从而保证对位标记不丢失。
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