本发明涉及微纳结构制备技术领域，具体涉及一种在有机材料表面制备抗反射微纳结构的方法。本发明对有机材料进行反应离子刻蚀，形成抗反射微纳结构；其中，反应离子刻蚀所用刻蚀气体为氧气和惰性气体，氧气的流量为1～50SCCM，惰性气体的流量为1～100SCCM，且氧气和惰性气体的流量比为1：(1～10)；反应离子刻蚀的功率为10～250W。本发明基于干法刻蚀，没有额外采用任何掩模板，在对有机材料进行反应离子刻蚀过程中，通过控制氧气和惰性气体的流量、二者流量的比例关系以及反应离子刻蚀的功率，能够使有机材料表面产生再沉积物，再沉积物能够作为反应离子刻蚀的微掩模，从而在有机材料表面制备出抗反射微纳结构。