本发明提供一种掩膜设备，通过将与第一像素区对应的且分别位于两个图形区域内的第一遮光区和的第二遮光区在光配向时被配置成具有重叠部分，从而使得在配向时该重叠部分在第一像素区的投影能够覆盖第一像素区的中心线和边缘线中的至少一个，继而也就避免了中心线和边缘线中的至少一个被曝光，使得该区域内的液晶分子与液晶基板之间的夹角在自两侧至中心的方向上逐渐增大，这样也就使得该区域内的液晶分子的倾倒方向更加规整，进而弱化了该区域的暗线深度，提高了液晶显示屏的光透过率，使得液晶显示屏的显示更加均匀。