本发明关于在微光刻投射曝光装置中的组件，其具有光学元件(100、200)、至少一个重量补偿装置以及具有多个线圈(151a、151b、151c、152a、152b、152c、251a、251b、251c、252a、252b、252c)的线圈配置，其中至少一个重量补偿装置包含至少一个磁路，由此磁路所产生的磁场引起力，用于至少部分地补偿作用在光学元件上的重量的力，以及其中线圈配置可由电流来赋能以产生作用于光学元件上的补偿力，此补偿力至少部分地补偿当光学元件移动时由磁路所施加的寄生力且对作用在光学元件上的重量的力的补偿无贡献。