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专利名称一种三维硅基模式选择开关及其制备方法
申请日2019-05-17
申请号/专利号CN201910416538.3
专利权人南京邮电大学
申请人南京邮电大学
发明人/设计人蒋卫锋;苗金烨;李涛
公告日2019-08-23
公告号CN110161626A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明揭示了一种三维硅基模式选择开关,该三维硅基模式选择开关包括:衬底层,在衬底层上设有下包层,在下包层上铺设有第一下层波导和第二下层波导,在第一下层波导和第二下层波导上均铺设有第一中间隔离层,在第一中间隔离层上再铺设有中间波导,在中间波导上铺设第二中间隔离层,在第二中间隔离层上再铺设有第一上层波导和第二上层波导,在第一上层波导和第二上层波导上方覆盖上覆盖层,其中中间波导通过外加电压能够实现第一下层波导和第二上层波导之间任意的高阶模开关转换。本发明结构简单、具有易于实现、工艺成熟、尺寸结构紧密、CMOS工艺兼容性高的优点,为实现光通信、光子系统中高性能光信号处理芯片或器件奠定了基础。
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