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| 专利名称 | 一种用于干法蚀刻制备二氧化硅光学微盘腔的前驱体 |
| 申请日 | 2019-03-04 |
| 申请号/专利号 | CN201920269124.8 |
| 专利权人 | 南京大学 |
| 申请人 | 南京大学 |
| 发明人/设计人 | 姜校顺;顾佳新;程欣宇;李冠宇;肖敏 |
| 公告日 | 2019-09-10 |
| 公告号 | CN209373172U |
| 法律状态 | 有效 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 行业分类 |
摘要
本实用新型提供一种用于干法蚀刻制备二氧化硅光学微盘腔的前驱体，所述前驱体包括由硅基底依次叠加的二氧化硅层、非晶硅或氮化硅层以及光刻胶层。通过所述前驱体制备得到的二氧化硅光学微盘腔尺寸大，且具有超高的品质因子。
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