本发明公开了小型光学级Ge窗口片开发工艺，本发明为了解决现有技术的存在的缺点，包括有以下步骤：S1，根据产品尺寸(D3.5*0.6)，选用相应基材尺寸，D25.4*1.0，无严格相关要求，S2，双面磨加工至0.63～0.64；双面磨加工，整盘25件，厚度公差整盘可至0.005以内，S3，双面抛加工至0.59～0.6；抛光尺寸消耗慢，尺寸控制简单，且光洁度60‑40，平行30秒以内，平面度λ/4，S4，把抛好的产品贴蓝膜保护表面，划片机划片至4.5*4.5方片，共25*17＝425件，S5，磨边加工，将方片产品磨边至D3.5(0/‑0.1)，双面倒边B0.1，且磨边加工时间短，上下盘方便，S6，除去产品表面蓝膜，擦拭干净，产品完工。尤其厚度尺寸控制方面，严格保证厚度公差误差在0.01以内，提高了产品的精度，有利于工艺技术的提升。