本发明公开一种任意图样的光纤光栅制备装置及其方法，包括光纤光栅刻写光、可控光阑、反射镜、相位掩膜板和待刻写光栅；所述光纤光栅刻写光通过可控光阑控制光纤光栅刻写光的通过和关闭，所述光纤光栅刻写光通过可控光阑发出，穿过可控光阑的光纤光栅刻写光经反射镜的反射作用将其正入射到相位掩膜板上，所述反射镜放置于可移动支架上，所述可移动支架控制反射镜处于与相位掩膜板平行的不同位置；所述相位掩膜板使光纤光栅刻写光形成初始干涉条纹；所述待刻写光栅，是通过光纤光栅刻写光形成的初始干涉条纹在待刻写光栅上形成周期性折射率调制而成。本发明在工作过程中对光源相干性与装置机械稳定性要求较低，在生产工程应用方面更容易实现。