本发明涉及一种超低损耗大有效面积的单模光纤及其制备方法，光纤从内到外依次是内芯层、下陷芯层、外芯层、内包层、下陷包层和外包层，其中：内芯层、下陷芯层、外芯层、内包层、下陷包层以二氧化硅作为基底材料并加入掺杂剂，外包层为纯二氧化硅；其中，内芯层的相对折射率为△n1，下陷芯层的相对折射率为△n2，外芯层的相对折射率为△n3，内包层的相对折射率为△n4，下陷包层的相对折射率为△n5，所述相对折射率大小为：Δn1＆gt;Δn3＆gt;Δn2＆gt;Δn4＆gt;Δn5，采用MCVD工艺和OVD工艺制备而成。本发明光纤的有效面积、截止波长、衰减、色散、弯曲损耗等综合性能良好。