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专利名称阵列基板及其制作方法、显示装置、掩模板
申请日2019-02-28
申请号/专利号CN201910152883.0
专利权人京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
申请人京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
发明人/设计人王小元;方琰;王武;白雅杰;毕瑞琳;吴胜学
公告日2019-06-14
公告号CN109884830A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

一种阵列基板及其制作方法、显示装置和掩模板。该阵列基板包括衬底基板;第一导电层,位于衬底基板上;绝缘层,位于第一导电层远离衬底基板的一侧;以及有机层,位于绝缘层远离第一导电层的一侧,周边区包括至少一个绑定区,在各绑定区,第一导电层包括间隔设置的多个引线,有机层包括暴露多个引线的第一开口,第一开口包括与引线的延伸方向相交的边缘,有机层还包括与边缘相连的锯齿形凹槽,在沿垂直于衬底基板的方向上,锯齿形凹槽的深度小于有机层的厚度,锯齿形凹槽在平行于衬底基板的平面上的正投影为锯齿形。由此,该阵列基板可避免造成绑定区短路。
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